抛光机械_抛光机械设备

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●０● 安集科技:深化化学机械抛光液全方位服务,拓宽功能性湿电子化学品...金融界9月2日消息,安集科技披露投资者关系活动记录表显示,公司始终坚持“立足中国,服务全球”的战略定位,持续深化化学机械抛光液一站式和全方位服务;进一步拓宽功能性湿电子化学品品类;在自主研发的基础上,引入电镀液及添加剂的国际合作,逐步覆盖多种产品品类。同时,公司正...

南兴股份取得一种带避让的往复式双联抛光装置专利,达到均匀抛光的...金融界2024年9月18日消息,天眼查知识产权信息显示,南兴装备股份有限公司取得一项名为“一种带避让的往复式双联抛光装置“,授权公告号 CN221716537U,申请日期为 2023 年 11 月。专利摘要显示,本实用新型涉及机械生产设备技术领域,公开了一种带避让的往复式双联抛光装置,包...

晶合集成申请化学机械抛光专利,减少晶圆报废数量,提升晶圆的抛光效率金融界2024年7月3日消息,天眼查知识产权信息显示,合肥晶合集成电路股份有限公司申请一项名为“晶圆化学机械抛光方法、系统、设备及介质“,公开号CN202410702769.1,申请日期为2024年6月。专利摘要显示,本发明提供晶圆化学机械抛光方法、系统、设备及介质,晶圆化学机械抛...

鼎龙股份申请化学机械抛光后清洗相关专利,改善铜的 CMP 过程后清洗...金融界 2024 年 8 月 4 日消息,天眼查知识产权信息显示,武汉鼎泽新材料技术有限公司,湖北鼎龙控股股份有限公司申请一项名为“化学机械抛光后清洗组合物及半导体器件基板的清洗方法“,公开号 CN202410523991.5,申请日期为 2024 年 4 月。专利摘要显示,本发明涉及化学机械抛光...

万华化学申请化学机械抛光组合物及其在钨化学机械抛光中的应用专利...金融界 2024 年 8 月 4 日消息,天眼查知识产权信息显示,万华化学集团电子材料有限公司,万华化学集团股份有限公司申请一项名为“化学机械抛光组合物及其在钨化学机械抛光中的应用“,公开号 CN202410873230.2,申请日期为 2024 年 7 月。专利摘要显示,本发明涉及化学机械抛光技...

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华海清科申请化学机械抛光控制方法专利,实现化学机械抛光过程的...金融界 2024 年 7 月 12 日消息,天眼查知识产权信息显示,华海清科股份有限公司申请一项名为“化学机械抛光控制方法、化学机械抛光设备及电子设备”,公开号 CN202410519807.X,申请日期为 2024 年 4 月。专利摘要显示,本申请提供一种化学机械抛光控制方法、化学机械抛光设备及...

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华海清科取得化学机械抛光系统专利,专利技术能实现模块化排列并...金融界2024年6月18日消息,天眼查知识产权信息显示,华海清科股份有限公司取得一项名为“一种化学机械抛光系统“的专利,授权公告号CN221135467U,申请日期为2023年11月。专利摘要显示,本实用新型公开了一种化学机械抛光系统,所述化学机械抛光系统包括前置单元、抛光单元...

∩﹏∩ 华海清科申请化学机械抛光专利,本申请的弹性膜更适用于抛光碳化硅金融界2024年6月13日消息,天眼查知识产权信息显示,华海清科股份有限公司申请一项名为“弹性膜、承载头、化学机械抛光系统及化学机械抛光方法“,公开号CN202410154179.X,申请日期为2024年2月。专利摘要显示,本申请公开了一种弹性膜、承载头、化学机械抛光系统及化学机...

广立微申请化学机械抛光仿真专利,提高后续化学机械抛光仿真的精度...金融界2024年6月25日消息,天眼查知识产权信息显示,杭州广立微电子股份有限公司申请一项名为“化学机械抛光仿真的版图图形处理方法、装置及电子装置“的专利,公开号CN202410344692.5,申请日期为2024年3月。专利摘要显示,本申请涉及一种化学机械抛光仿真的版图图形处理...

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台积电申请化学机械抛光设备及其操作方法专利,设备包含垫调节器金融界2024年4月10日消息,据国家知识产权局公告,台湾积体电路制造股份有限公司申请一项名为“化学机械抛光设备及其操作方法“,公开号CN117840916A,申请日期为2018年8月。专利摘要显示,本发明实施例涉及一种化学机械抛光设备及其操作方法。一种用于化学机械抛光的设备...