啥是光刻机_啥是光刻机

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光刻机(胶)概念16日主力净流出4585.7万元,晶方科技、宝通科技居前8月16日,光刻机(胶)概念上涨0.45%,今日主力资金流出4585.7万元,概念股32只上涨,46只下跌。主力资金净流出居前的分别为晶方科技(3713.14万元)、宝通科技(2854.63万元)、蓝英装备(2734.98万元)、双乐股份(1824.68万元)、航天智造(1719.54万元)。

三星被曝最快 2024 年底前开始安装首台 High-NA EUV 光刻机IT之家 8 月 16 日消息,首尔经济日报昨日(8 月 15 日)报道,三星将于 2024 年第 4 季度至 2025 年第 1 季度期间,安装首台来自 ASML 的 High-NA EUV 光刻机,并预估 2025 年年中投入使用。报道称三星将在其华城园区内安装首台 ASML Twinscan EXE:5000 High-NA 光刻机,主要用于研发...

光刻机(胶)概念15日主力净流出3373.28万元,惠伦晶体、双乐股份居前8月15日,光刻机(胶)概念上涨0.81%,今日主力资金流出3373.28万元,概念股68只上涨,9只下跌。主力资金净流出居前的分别为惠伦晶体(1412.98万元)、双乐股份(1235.32万元)、华软科技(791.59万元)、新莱应材(766.35万元)、容大感光(679.11万元)。

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●﹏● 芯碁微装申请用于激光直写光刻机相关专利,避免激光直写光刻机在...金融界 2024 年 8 月 14 日消息,天眼查知识产权信息显示,合肥芯碁微电子装备股份有限公司申请一项名为“用于激光直写光刻机的自动聚焦控制方法、曝光控制方法、光刻机和存储介质“,公开号 CN202410643597.5 ,申请日期为 2024 年 5 月。专利摘要显示,本发明公开了一种用于激...

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∩＾∩ 芯碁微装申请用于直写式光刻机的安全防护专利,与 PLC 软件联动达到...金融界 2024 年 8 月 14 日消息,天眼查知识产权信息显示,合肥芯碁微电子装备股份有限公司申请一项名为“一种用于直写式光刻机的安全防护系统及方法“,公开号 CN202410699512.5,申请日期为 2024 年 5 月。专利摘要显示,本发明公开了一种用于直写式光刻机的安全防护系统及方法...

光刻机(胶)概念13日主力净流出1.95亿元,盛剑科技、张江高科居前8月13日,光刻机(胶)概念上涨0.98%,今日主力资金流出1.95亿元,概念股67只上涨,11只下跌。主力资金净流出居前的分别为盛剑科技(8310.0万元)、张江高科(3519.22万元)、大族激光(3355.02万元)、芯源微(1844.42万元)、南大光电(1275.48万元)。

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光刻机(胶)概念9日主力净流出8742.73万元,宝通科技、航天智造居前8月9日,光刻机(胶)概念下跌0.42%,今日主力资金流出8742.73万元,概念股17只上涨,57只下跌。主力资金净流出居前的分别为宝通科技(4303.1万元)、航天智造(2895.0万元)、蓝英装备(1929.06万元)、圣泉集团(1601.39万元)、强力新材(1399.07万元)。

价值3.83亿美元 Intel拿下全球第二台High NA EUV光刻机8月6日消息,在近日的财报电话会议上,Intel CEO宣布已成功接收全球第二台价值3.83亿美元的High NA EUV(极紫外光刻机)。High NA EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备之一,其分辨率达到8纳米,能够显著提升芯片的晶体管密度和性能,是实现2nm以下先进制程大规模量产的...

光刻机(胶)概念8日主力净流出1.52亿元,宝通科技、赛微电子居前8月8日,光刻机(胶)概念下跌0.4%,今日主力资金流出1.52亿元,概念股32只上涨,43只下跌。主力资金净流出居前的分别为宝通科技(2837.79万元)、赛微电子(1732.22万元)、航天智造(1705.68万元)、晶方科技(1406.07万元)、斯迪克(1153.26万元)。

imec 首次成功利用 ASML High NA 光刻机实现逻辑、DRAM 结构曝光IT之家 8 月 8 日消息,比利时微电子研究中心 imec 当地时间昨日宣布,在其与 ASML 合作的 High NA EUV 光刻实验室首次成功利用 High NA EUV 光刻机曝光了逻辑和 DRAM 的图案结构。在逻辑图案方面,imec 成功图案化了单次曝光随机逻辑机构,实现了 9.5nm 密集金属线(IT之家注:对应...