抛光_抛光砖

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安集科技申请化学机械抛光液及其用途专利,能提高Co/TEOS的选择比...金融界2024年6月28日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光液及其用途“,公开号CN202211698518.8,申请日期为2022年12月。专利摘要显示,本发明提供了一种化学机械抛光液,包括研磨颗粒、研磨颗粒稳定剂、腐蚀抑制...

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安集科技申请化学机械抛光液专利,有效改善抛光后晶圆表面的形貌金融界2024年6月28日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光液“,公开号CN202211698530.9,申请日期为2022年12月。专利摘要显示,本发明提供了一种化学机械抛光液,包括水、氧化物研磨颗粒、催化剂、稳定剂、氧化剂...

安集科技申请化学机械抛光液专利,能够有效改善钴表面的腐蚀情况,...金融界2024年6月28日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光液及其用途“,公开号CN202211698536.6,申请日期为2022年12月。专利摘要显示,本发明提供了一种化学机械抛光液,包括研磨颗粒、腐蚀抑制剂、络合剂、表面...

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安集科技申请化学机械抛光液专利,能够满足各种工艺条件下对介质...金融界2024年6月28日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光液及其用途“,公开号CN202211698145.4,申请日期为2022年12月。专利摘要显示,本发明提供了一种化学机械抛光液及其使用方法。所述化学机械抛光液,包括非...

?▽? 安集科技申请一种化学机械抛光液专利,保证较高钨的抛光速度的同时,...金融界2024年6月28日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光液“,公开号CN202211698519.2,申请日期为2022年12月。专利摘要显示,本发明提供了一种化学机械抛光液,包括水,二氧化硅研磨颗粒,氮化硅抑制剂,稳定剂,钨抛...

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安集科技申请一种化学机械抛光液及其用途专利,能够调节不同二氧化...金融界2024年6月28日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光液及其用途“,公开号CN202211698186.3,申请日期为2022年12月。专利摘要显示,本发明提供了一种化学机械抛光液及其使用方法。所述化学机械抛光液包括非...

⊙ω⊙ 安集科技申请一种化学机械抛光液专利,具有较高的无定形碳材料的...金融界2024年6月28日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光液“,公开号CN202211697964.7,申请日期为2022年12月。专利摘要显示,本发明提供了一种无定形碳材料抛光的化学机械抛光液。本发明中的化学机械抛光液,包...

＋＾＋ 安集科技申请一种化学机械抛光液专利,可以在碱性条件下显著抑制钨...金融界2024年6月28日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光液”,公开号CN202211698520.5,申请日期为2022年12月。专利摘要显示,本发明提供了一种化学机械抛光液,包括研磨颗粒,钨速度抑制剂,pH调节剂和水。本发明...

晶亦精微上交所IPO终止 公司主要产品为化学机械抛光(CMP)设备及其...主要产品为化学机械抛光(CMP)设备及其配件,并提供技术服务。CMP设备通过化学腐蚀与机械研磨的协同配合作用,实现晶圆表面多余材料的高效去除与全局纳米级平坦化,主要用于集成电路制造领域。报告期内,随着业务规模快速增长,晶亦精微采购金额呈现增长趋势,各期原材料采购金...

ˋωˊ 广立微申请化学机械抛光仿真专利,提高后续化学机械抛光仿真的精度...金融界2024年6月25日消息,天眼查知识产权信息显示,杭州广立微电子股份有限公司申请一项名为“化学机械抛光仿真的版图图形处理方法、装置及电子装置“的专利,公开号CN202410344692.5,申请日期为2024年3月。专利摘要显示,本申请涉及一种化学机械抛光仿真的版图图形处理...